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Compact Photoresist Coating and Developing System CD06-XS1C1D1A
Anwendungsbereiche

Compact Photoresist Coating and Developing System CD06-XS1C1D1A

Maschinenmerkmale

1. Compact footprint and excellent stability

2. Easy operation and maintenance


Anwendungsbereiche

Photoresist coating and developing for Compound Semiconductors, Power Devices, MEMS, RF ICs, LEDs, Scientific‑research Projects and Optical Components.


OLED- und LCD-Panelindustrie
Technical Data Sheet

Machine   Model

Compact   Photoresist Coating and Developing System CD06-XS1C1D1A

Cassette

2CS

wafer Type

Round   Wafers

wafer Size（mm）

50-150

Throughput（WPH）

50

Substrate   Materials

Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4

Processes

g-line、i- line、PI


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