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1. Niedertemperatur-Argonplasma (38 ℃), sodass Chips oder Dünnschichten nicht beschädigt werden.
2. Kompatible Gase: Argon (Ar), Sauerstoff (O2).
Reinigung und Oberflächenmodifikation von LEDs, LCDs, ITO-Glas, Leiterplatten und Glasabdeckungen vor der AF-Beschichtung.