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1. Rein faserbasiertes optisches Design, Subnanosekundenpulse
2. Hohe Pulsenergie und Spitzenleistung
3. Einstellbare Wiederholrate
4. Nahezu beugungsbegrenzte Strahlqualität
5. Kompakte Bauweise mit geringem Platzbedarf
Dieser Laser basiert auf einem rein faserbasierten optischen Design und liefert Subnanosekunden-Laserausgang mit nahezu beugungsbegrenzter Strahlqualität und hervorragender Stabilität. Er eignet sich für zahlreiche Branchen, darunter Halbleiter, Photovoltaik und neue Energien, und wird insbesondere eingesetzt für:
Schneiden, Bohren und Ritzen von Glas, Silizium und Keramik
Dünnschichtstrukturierung von Metallen und Dünnschichten
Laserbeschriftung von Glas, Silizium, Keramik, Metallen und Kunststoffen
Maschinenmodell | Grüner Subnanosekundenlaser NPFL-50G-1.0 |
Betriebsmodus | gepulst |
Mittlere Leistung (W) | 50 |
Zentrale Wellenlänge (nm) | 532 |
Linienbreite (nm) | <10 ; 3-dB-Linienbreite |
Wiederholrate (kHz) | 1500–2200 ; einstellbar |
gepulst Width(ns) | 0,6–4 ns ; einstellbar |
Leistungseinstellbereich (%) | 0–100 |
Ansprechzeit (µs) | <5 |
Strahlqualität (M²) | ≤1,1 |
Leistungsstabilität (%) | ≤5 % ; 24 h |
Strahlfleckgröße (mm) | 1,2±0,3 ; 1/e² |
Strahlfleckelliptizität (%) | >90 ; Typ.95 % |
Strahlversatz (mm) | <2,0 |
Strahldivergenz (mrad) | <0,5 |